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硅片气氛保护实验辊道炉

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产品介绍

辊道窑参数

1.额定温度:1100℃常用温度:1000℃

2.额定功率:360KW

3.保温功率:约220KW(保温功率和进料速度、炉顶排气量有关)

4.供电电源:3Φ—380V

5.加热区数:19区

6.控温点数:38点

7.加热方式:上下加热,恒温区上下分别控温

8.加热元件:高温电阻丝(0Cr27A17Mo2,内置瓷管中)

9.控温精度:≤±1℃

10.截面温度(恒温段):≤±5℃

11.炉膛尺寸(L×W×H):30000×800×240mm

12.工作区尺寸(L×W×H):30000×720×240mm

13.匣钵尺寸(L×W×H):320×320×72mm(需方自备)

14.窑体外形尺寸约(L×W×H):33000×2360×1450mm

15.传送速度:800—2000mm/h常用速度1200mm/h

16.调速方式:变频调速

注:可根据用户要求另行设计制造,更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询!

辊道窑参数

1.额定温度:1100℃常用温度:1000℃

2.额定功率:360KW

3.保温功率:约220KW(保温功率和进料速度、炉顶排气量有关)

4.供电电源:3Φ—380V

5.加热区数:19区

6.控温点数:38点

7.加热方式:上下加热,恒温区上下分别控温

8.加热元件:高温电阻丝(0Cr27A17Mo2,内置瓷管中)

9.控温精度:≤±1℃

10.截面温度(恒温段):≤±5℃

11.炉膛尺寸(L×W×H):30000×800×240mm

12.工作区尺寸(L×W×H):30000×720×240mm

13.匣钵尺寸(L×W×H):320×320×72mm(需方自备)

14.窑体外形尺寸约(L×W×H):33000×2360×1450mm

15.传送速度:800—2000mm/h常用速度1200mm/h

16.调速方式:变频调速

注:可根据用户要求另行设计制造,更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询!

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